Nano Lab - Contribuições do usuário [pt-br]

LCN

2010-12-03T16:50:26Z

Liliane:

<table border="2" cellpadding="5" align="center">
<caption style="font-size:200%">'''''Laboratório de Conformação Nanométrica <br> <br>Laboratório Institucional Multiusuário <br> <br> '''''</caption>

<tr><th>Instituto de Física <br> <br> Universidade Federal do <br> Rio Grande do Sul <br>
----

[[Imagem:logoif.jpg|100px|center|]]
</th><th>[[Imagem:aaa.jpg|400px|center|]]
</th></tr>
</table>

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<div style="font-size:200%">

<center>

<span style="color:red">'''''Agende horários escrevendo para [mailto:nanolab@if.ufrgs.br nanolab@if.ufrgs.br].'''''</span>

<span style="color:red">'''''Veja [http://www.google.com/calendar/embed?src=nanoifufrgs%40gmail.com&ctz=America/Sao_Paulo aqui] o calendário de uso das máquinas.'''''</span>

</center>

</div>
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== Equipamentos ==

*[http://www.jeol.com/PRODUCTS/ElectronOptics/MultiBeamSEMFIB/JIB4500/tabid/502/Default.aspx FIB JEOL modelo JIB4500]
*[http://nano.pse.umass.edu/?q=node/9 Sputtering AJA modelo Orion-8 UHV]

== Plano ==

O LCN foi criado com a perspectiva de complementar três áreas de atuação complementares na área nanociência e nanotecnologia dentro da Universidade Federal do Rio Grande do Sul:

<table border="1" cellpadding="2">
<tr><th>i) a síntese de materiais nanoestruturados a partir de sistemas de evaporação usando diferentes técnicas, tais como erosão catódica (sputtering, deposição de camadas atômicas (atomic layers deposition technique). Um sistema de síntese de materiais nanoestruturados da AJA International modelo Orion 8 UHV foi adquirido com recursos do projeto MCT/Multiusuário, coordenado pelo Professor João Schmidt. Este sistema permite a fabricação de amostras nanoestruturadas em camadas com excelente qualidade, no que diz respeito à uniformidade dos filmes, ao controle das espessuras (entre uma monocamada atômica até centenas de nanometros) e à possibilidade de produzir multicamadas contendo várias bicamadas de diferentes materiais. </th>
<tr><th>ii) sistemas de processamento e caracterização de nanoestruturas. Este item foi apoiado nos projetos CTINFRA 05/06/07 com a aquisição dos sistemas Focused Ion Beam, semelhante um Microscópio Eletrônico de Varredura acrescido de um feixe nanométrico de íons de gálio. Este FIB pode ser operado com altas correntes para promover o nanoprocessamento de materiais, ou em baixas correntes para obter imagens.</th>
<tr><th>iii) aplicação em nanotecnologia (nanosensores, materiais biocompatíveis, nanocompósitos etc.)
</th>
</table>


== Histórico ==

<table border="2" cellpadding="5" align="center">
<tr><th>

[[Imagem:h1.jpg|thumb|400px|center|LCN]]
</th><th>[[Imagem:h2.jpg|thumb|400px|center|LCN]]
</th></tr>
</table>


== Equipe ==

* João E. Schmidt, Mario N. Baibich, João B.M. da Cunha, Marcos A.Z. Vasconcellos, Cristiano Krug
* Júlio R. Schoffen, Fabrício Casarin, Eduardo Blando

== Relatório de Atividades ==

=== Estatísticas de uso ===

<table border="2" cellpadding="5" align="center">
<tr><th>[[Imagem:Lab6.jpg|thumb|200px|center|LCN]]
</th><th>[[Imagem:Ga.jpg|thumb|200px|center|LCN]]
</th><th>[[Imagem:Sputteringpie.jpg|thumb|200px|center|LCN]]
</th></tr>
<tr><th>[[Imagem:TabLab6.jpg|thumb|200px|center|LCN]]
</th><th>[[Imagem:TabGa.jpg|thumb|200px|center|LCN]]
</th><th>[[Imagem:Sputtering.jpg|thumb|200px|center|LCN]]
</th></tr>
</table>

=== Projetos atendidos ===

<table border="2" cellpadding="5" align="center">
<tr>
<th>Lab. Resistividade Elétrica [[ Imagem:Resist.jpg|thumb|100px|center|LCN]]</th>
<th>Magnetismo - esperando informações</th>
<th>Lab. Implantação - esperando informações </th>
<th>Lab. Microanálise [[Imagem:Mic.jpg|thumb|100px|center|LCN]]</th>
</tr>
<tr>
<th>[[Lab. de Físico-Química de Superfícies ("XPS")]]</th>
<th> LAPMA [[Imagem:Lapma1.jpg|thumb|100px|center|LCN]]</th>
<th> LAPMA [[Imagem:Lapma2.jpg|thumb|100px|center|LCN]]</th>
<th>LASER - esperando informações</th>
<th>GEO - esperando informações</th>
</tr>
</table>

LCN

2010-12-03T16:50:11Z

Liliane:

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2010-12-03T16:48:40Z

Liliane:

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2010-12-03T16:48:25Z

Liliane: